张剑平（在站时间：2008.7-2010.6）

 张剑平，男，上海市人，中共党员，工学博士，上海大学副教授。1984年本科毕业于上海师范大学化学系，2000年上海大学应用化学专业获硕士学士，2007年该校材料学获博士学位。

 1984年至1994年任教于上海工业大学，1994年至今任教于上海大学。

 主要从事无机化学、纳米材料、高分子材料和相关领域的教学和科研工作。作为课题组长承担了上海市纳米专项、上海市教委科技项目、上海市光科技专项和企业横向合作等课题，作为主要研究人员还完成国家863项目、国家科技部世博会专项等项目30余项，其中绝大都分项目已完成。开发了多种具有特殊功能的有机聚合物涂料产品，如纳米光催化净化空气有机聚合物涂料、纳米汽车保护聚合物涂料，开发的纳米耐变频绝缘无机-有机聚合物已在有关单位小批量使用，以替代进口产品。申请国家发明专利20余项，其中7项已授权，在国内外核心刊物发表论文30余篇。1998年获上海市科技进步二等奖（第二完成人）；2000年获上海大学教学成果二等奖（第三完成人）；2001年获上海市教学成果三等奖（第三完成人）；2004年获上海市科技进步一等奖（第二完成人）；2005年获上海市科技进步二等奖（第五完成人）；2006年获上海市科技进步二等奖（第三完成人）；2007年获上海大学课堂优秀教师称号。

专利情况：
 
1. 一种紫外纳米压印抗蚀剂及其组成 申请号：200910197581.1 
2. 一种纳米结构压印硬模板 申请号：200910044948.6 
3. 一种去除冷压印残留胶层的方法 申请号：200910044949.0 
4. 一直廉价的压印模板 申请号：200910044950.3

学术论文： 
1. Enhanced efficiency of light emitting diodes with a nano-patterned gallium nitride surface realized by soft UV nanoimprint lithography, nanotechnology 2010,(21,204304 
2.Porous Alumina Nano-membranes: Soft Replica moliding for large area UV-Nanoimprint Lithography. Microelectronic Engineering doi:10/.1016/j.mee 2009.04.024 
3.Replication fo mold for UV-nanoimprint lighorgraphy Using AAO membrane, Applied Surface Science, 2009.(255):8109 
4. Construction of Si2Sb2Te5 electrical probe storage based on UV nanoimprint lighorgraphy. Nanotechnology 2009,20:1 
5. Si2Sb2Te5 phase change material studied by an atomic force microscope nano-tip, 2009,30 (6):063003-1 
6. Study on Adhesive Strength between Ge2Sb2Te5 Film,Jpn.J. Appl.Phys. 2009,48,101601 
7. 压印技术制备超高密度Si2Sb2Te5基箱变存储阵列，维纳电子技术2009，46（1）：45   

 张剑平博士在站期间主持完成上海市博士后重点项目《紫外纳米压印光刻胶的研制》（编号：09R21420200）。在深入研究光刻胶配方中各个成分对光刻胶性能的影响规律的基础上，研发出了一种紫外纳米压印专用的光刻胶。该光刻胶在4英寸硅片上的涂布平整度不大于10纳米，采用硬模板或软模板都能在3分钟的曝光时间内压印出从微米级到100纳米左右的各种图形结构，图形分辨率较高；光刻胶的体积收缩率仅为2.5%，图形保真度高；光刻胶对硅片具有较高的刻蚀选择比，在适合的工艺下选择比为1.37:1。在硅片和模板上的光刻胶用硫酸/双氧水一次就可以迅速、彻底洗净，提高了模板的使用效率。实验结果表明，所研制的光刻胶其性能达到了同类进口紫外压印光刻胶的水平。在站期间，发表相关论文7篇，申请相关发明专利4项。